学習記録

洗浄プロセスの入口で

台風に、地震に、いろんなことが立て続けに起きますね。

こちら関西では、先日の台風は思った以上に影響が大きく、特に物流関係はまだかなり混乱しています。

コンテナが海に浮いている写真をみて戦慄しました。一歩間違えたら自社の貨物があの中に入っていてもおかしくなかったからです(輸出商社で仕事してます)。

 

最近は、はじめての半導体プロセス (現場の即戦力)を頭から読みながら、わからない言葉を調べてノート化したり、知子の情報に入れたりしていました。

昨日は「基本プロセス技術」の章の冒頭、洗浄技術のところを学習しました。

 

洗浄は基本プロセスの中でも最重要技術の一つであると、本の中でも強調されています。

ではなぜ、洗浄がそれほど大事なのでしょうか。

ひとつは、1µm以下の非常の小さなゴミ(パーティクル)が不良の原因となり、歩留まり低下につながるためです。

更に半導体製造プロセスで何度も洗浄を行わなくてはならず、またその都度「汚れ具合」に応じて洗浄方法を最適化しなくてはならないためです。

 

この「汚れ」にはパーティクル以外にも、人体由来の油分やウエハ表面にできる酸化膜中の不純物なども含まれ、その発生源も物質も様々です。

そのため洗浄と一言で言っても、ただ洗い流すだけではなく、汚染を取り除くこと全般を指し、特許も山のように出ています。

本の1ページの内容に一体どれだけの特許が詰まっているのだろう、と思うほどです。

 

特許明細書はこれから本格的に読みます。

まだまだ先は長いので、あまり深追いしてもいけないと思いつつも、この洗浄プロセスのところは少しじっくりやりたいとも思います。

本を読み進めていて、ここに半導体製造プロセスのエッセンスがぎゅっと圧縮されているな、と思ったからです。

まだまだ半導体製造プロセス全体に対して持っている知識が少なすぎるので、洗浄工程からもう少し全体的な知識を補充していきたいという気持ちがあります。

と考えるより、まずは読むことですね。

今週末、J-PlatPatがメンテナンスに入ってしまうので、今日のうちに明細書を積み上げておかないと・・・

いや、逆にgoogle patentsや他のサービスの機能をじっくり試す良い機会かもしれませんね。

 


9/6(木)の学習記録

項目: 「はじめての半導体プロセス」+関連する明細書を読む
目標: 6h30m  実績:6h15m
メモ:洗浄技術の学習+スパッタ装置、PVD装置の復習など。

9/7(金)の学習計画

項目: 洗浄技術の学習+関連する明細書を読む
目標: 6h  

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